當(dāng)前位置:首頁 > 技術(shù)文章
X熒光膜厚儀(XRF膜厚儀)是一種基于X射線熒光光譜分析技術(shù)的非破壞性檢測設(shè)備,能夠快速、精確地測量材料表面鍍層的厚度及成分。在半導(dǎo)體封裝領(lǐng)域,引線框架(LeadFrame)作為芯片與外部電路連接的關(guān)鍵部件,其表面鍍層(如銀、金、鎳、鈀、錫等)的質(zhì)量和厚度直接影響導(dǎo)電性、焊接性能和耐腐蝕性。以下是X熒光膜厚儀在引線框架鍍層測試中的具體應(yīng)用及優(yōu)勢:一.應(yīng)用場景1.鍍層厚度測量引線框架通常需要多層鍍層(如Ag/Ni/Pd/Au等組合),X熒光膜厚儀可同時測量各鍍層的厚度,無需破壞...
8-18
科研級接觸角測量儀是研究材料表面潤濕性、界面張力及化學(xué)活性的關(guān)鍵設(shè)備,但在實(shí)際應(yīng)用中可能遇到多種技術(shù)問題。以下是常見問題及其針對性解決方案:一、科研級接觸角測量儀圖像識別誤差導(dǎo)致的數(shù)據(jù)偏差1.現(xiàn)象液滴輪廓擬合不準(zhǔn)確(如橢圓擬合法失效)、基線判斷錯誤,導(dǎo)致接觸角讀數(shù)波動大或明顯偏離理論值。2.原因分析樣品表面粗糙度過高或存在微觀結(jié)構(gòu)干擾;光源強(qiáng)度不足/過曝造成邊緣模糊;鏡頭污染影響成像清晰度;軟件算法未適配特殊形狀液滴(如非對稱液滴)。3.解決方案優(yōu)化成像條件清潔物鏡并調(diào)整焦距...
8-15
科研級接觸角測量儀是一種用于精確表征固體表面潤濕性的儀器,其核心基于年輕-拉普拉斯方程和流體力學(xué)原理。一、科研級接觸角測量儀科學(xué)原理:1.靜態(tài)接觸角理論(楊氏平衡)當(dāng)液滴靜止在均勻理想的光滑表面上時,三相界面(固/液/氣)達(dá)到力學(xué)平衡狀態(tài)。此時,液體表面張力在水平方向的分力相互抵消,形成穩(wěn)定的接觸角θ。2.動態(tài)過程分析擴(kuò)展應(yīng)用范圍前進(jìn)角與后退角:通過控制注射泵緩慢增加或減少液滴體積,監(jiān)測滯動現(xiàn)象以評估表面粗糙度、異質(zhì)性對實(shí)際使用的影響。滾動角測定:傾斜樣品臺至液滴開始滾動時的...
8-12
一、真空泄漏定位真空泄漏是影響等離子清洗機(jī)穩(wěn)定性的核心問題,其定位需結(jié)合檢測方法與設(shè)備特性綜合判斷:氦質(zhì)譜檢漏法適用于高真空系統(tǒng)(如分子泵腔體),通過向腔體充入0.1MPa氦氣,用檢漏儀掃描法蘭接口、觀察窗、氣路電磁閥等部位。若檢測到氦氣泄漏,需緊固螺栓或更換氟橡膠O型圈(如Pfeiffer真空泵密封件)。例如,某設(shè)備因預(yù)真空室隔離門密封圈老化,導(dǎo)致真空度無法達(dá)到1×10?3Pa,更換后恢復(fù)。壓力衰減測試適用于中低真空系統(tǒng)(如機(jī)械泵腔體),關(guān)閉真空泵后記錄1小時內(nèi)壓力上升值。...
7-21
水滴角測量儀在材料科學(xué)與涂層研究中具有極其重要的地位,以下是其重要性的具體體現(xiàn):一、基礎(chǔ)研究方面1.表征材料表面特性表面能分析:水滴角是反映材料表面能的重要參數(shù)。根據(jù)Young方程,通過測量水滴角可以計(jì)算出材料的表面自由能。表面能是材料表面的一個基本物理性質(zhì),它影響著材料的表面吸附、潤濕、鋪展等行為。例如,對于金屬材料,高表面能的表面往往具有更高的化學(xué)活性,容易發(fā)生氧化、腐蝕等反應(yīng);而低表面能的表面則相對較為穩(wěn)定。表面粗糙度評估:水滴角測量儀可以間接反映材料表面的粗糙度。當(dāng)水...
7-15
水滴角測量儀是用于表征材料表面潤濕性的重要工具,其操作的準(zhǔn)確性直接影響實(shí)驗(yàn)結(jié)果。以下是提高測量精度和效率的實(shí)用技巧:一、水滴角測量儀實(shí)驗(yàn)前準(zhǔn)備:1.樣品處理:清潔表面:使用酒精、去離子水或超聲波清洗去除油污、灰塵等雜質(zhì),避免污染影響潤濕性。干燥處理:用氮?dú)獯蹈苫蛘婵崭稍铮_保樣品表面無殘留液滴。平整度檢查:樣品表面需平整,避免傾斜導(dǎo)致液滴滾動。2.儀器校準(zhǔn):水平校準(zhǔn):調(diào)節(jié)儀器底座水平,防止液滴受重力影響偏移。光學(xué)校準(zhǔn):調(diào)整攝像頭焦距,確保液滴輪廓清晰;使用標(biāo)準(zhǔn)工具校正圖像畸變...
7-11
要提升全自動鍍層測厚儀的測量穩(wěn)定性與重復(fù)性,需從設(shè)備、環(huán)境、操作及數(shù)據(jù)處理四方面綜合優(yōu)化,具體措施如下:一、設(shè)備精度優(yōu)化選用高質(zhì)量傳感器:優(yōu)先選擇靈敏度高、穩(wěn)定性強(qiáng)的磁性或渦流傳感器,確保信號捕捉精準(zhǔn)。例如,采用集成電渦流與電磁感應(yīng)的高靈敏度探頭,可顯著提升測量穩(wěn)定性。定期校準(zhǔn)與維護(hù):建立每日開機(jī)校準(zhǔn)制度,使用標(biāo)準(zhǔn)樣片(如鐵基裸材)進(jìn)行系統(tǒng)校準(zhǔn),確保測量誤差≤3%(厚度值)±1μm。同時,定期檢查探頭磨損情況,及時更換變形或附著雜質(zhì)的探頭。二、環(huán)境干擾控制遠(yuǎn)離強(qiáng)...
6-23
半導(dǎo)體等離子去膠機(jī)是利用等離子體技術(shù)去除半導(dǎo)體制造過程中光刻膠的專用設(shè)備。其核心原理是通過等離子體中的高能粒子與光刻膠發(fā)生物理或化學(xué)作用,實(shí)現(xiàn)高效、精準(zhǔn)的膠層去除。一、半導(dǎo)體等離子去膠機(jī)產(chǎn)品原理:1.等離子體生成機(jī)制氣體輝光放電:在真空腔體內(nèi)通入工藝氣體,通過高頻電場(RF射頻或微波)激發(fā)氣體電離,形成等離子體。等離子體組成:包含高能電子、離子、自由基、紫外光子和中性分子。2.去膠機(jī)理物理作用:高能粒子(如離子)轟擊光刻膠表面,通過物理濺射破壞膠分子結(jié)構(gòu),適用于厚膠層或硬質(zhì)光...
6-19
半導(dǎo)體等離子去膠機(jī)是半導(dǎo)體制造工藝中的關(guān)鍵設(shè)備,主要用于去除光刻膠、殘留物或污染物。它利用等離子體的高能特性,通過物理或化學(xué)作用實(shí)現(xiàn)高效、精準(zhǔn)的去膠和表面處理。一、半導(dǎo)體等離子去膠機(jī)核心功能與原理:1.核心功能:去膠:去除光刻工藝后殘留的光刻膠(正膠或負(fù)膠)。表面清潔:清除晶圓表面的有機(jī)物、氧化物或顆粒污染物。表面活化:增強(qiáng)晶圓表面活性,提高后續(xù)工藝(如鍍膜、鍵合)的附著力。蝕刻:選擇性去除特定材料(如氧化層),用于精細(xì)圖形處理。2.工作原理:通過等離子體(由氣體電離產(chǎn)生的高...
6-13
一、校準(zhǔn)流程準(zhǔn)備工作:確保儀器表面清潔,特別是測量窗口,避免污垢影響精度。使用廠家提供的校準(zhǔn)樣片,確保標(biāo)準(zhǔn)樣品可追溯至國際標(biāo)準(zhǔn)。設(shè)備預(yù)熱:打開儀器,預(yù)熱至推薦溫度,一般需5-10分鐘,確保設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行。校準(zhǔn)操作:在操作界面選擇校準(zhǔn)模式,將標(biāo)準(zhǔn)樣品放置在測量位置,確保緊密貼合,減少空氣間隙。對每個標(biāo)準(zhǔn)樣品至少進(jìn)行三次測量,記錄平均值。調(diào)整與驗(yàn)證:根據(jù)測量數(shù)據(jù)調(diào)整校準(zhǔn)系數(shù),如靈敏度、能量偏移等。應(yīng)用校正算法,如線性回歸,提高準(zhǔn)確性。使用另一套標(biāo)準(zhǔn)樣品驗(yàn)證校準(zhǔn)效果,確保結(jié)果與標(biāo)準(zhǔn)值...
5-26
半導(dǎo)體等離子清洗機(jī)是一種用于清潔和表面處理的設(shè)備,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、電子封裝、光伏、醫(yī)療器械等領(lǐng)域。其6種檢測功能通常用于確保設(shè)備運(yùn)行的穩(wěn)定性、清洗效果的可靠性以及工藝參數(shù)的準(zhǔn)確性。以下是常見的6種檢測功能及其作用:1.射頻(RF)功率檢測功能:實(shí)時監(jiān)測等離子體的射頻功率,確保功率輸出穩(wěn)定。作用:射頻功率直接影響等離子體的能量和清洗效果,功率不穩(wěn)定可能導(dǎo)致清洗不均勻或表面損傷。通過檢測功率,可以及時發(fā)現(xiàn)設(shè)備故障或參數(shù)偏差,避免生產(chǎn)損失。應(yīng)用場景:半導(dǎo)體晶圓清洗、金屬表面活...